ОАО «НИИПМ» — российская компания. Полное наименование — Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения». Штаб-квартира компании расположена в Воронеже.

ОАО «НИИПМ»
Изображение логотипа
Тип ОАО
Основание 1961
Расположение  Россия: Воронеж, Воронежская область
Ключевые фигуры Тупикин В.Ф. (генеральный директор с 2006 года)
Отрасль машиностроение
Продукция оборудование для фотолитографии, плазмохимии, очистка подложек, контрольно-измерительное оборудование, контрольно-испытательное оборудование, реактор получения фуллереносодержащей смеси, светодиодные светильники, системы энергосбережения, оборудование для производства солнечных батарей, солнечные батареи
Число сотрудников более 250 ( 2011 год)
Сайт vniipm.ru

История править

Компания основана в 1961 году на основе постановления совета министров СССР, с 1993 года Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения».

В 2007 году на базе площадки НИИ создан Технопарк «Содружество», который объединяет в себе более 80 малых инновационных предприятий. Управляющей компанией технопарка является Закрытое акционерное общество «Воронежский инновационно-технологический центр» (ЗАО «ВИТЦ»).

В 2009 году НИИ сертифицировано по международному стандарту ISO 9001:2008, военно техническому стандарту СРПП ВТ.

В 2011 году НИИПМ вступил в международную ассоциацию участников космической деятельности (МАКД).[1]

В 2012 году институт вступил в перечень предприятий-поставщиков оборудования и спецтехники для атомной промышленности.[2]

Собственники и руководство править

Председатель совета директоров компании — Веселов В. Ф.

Генеральным директором ОАО «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения» с 2006 года является Тупикин Вячеслав Фёдорович.

Деятельность править

 
Станция получения «чистой» электроэнергии
 
Тупикин В.Ф (слева) и Кулаков В. Г. (справа)

ОАО «НИИПМ» является одним из нескольких предприятий на территории РФ, которое занимается разработкой и производством специального технологического оборудования (СТО) для научных исследований и производства изделий электроники.

После распада СССР предприятие переживало не самые лучшие времена, но все же выжило и развивается. Сейчас в НИИ числится более 250 сотрудников, есть кандидаты и доктора наук. За все время деятельности защищены десятки патентов и авторских прав на разработки.

В НИИ первым в СССР был разработан катушечный видеомагнитофон.

Рядом со зданием института в 2011 году была установлена станция получения «чистой электроэнергии» в которую входят ветряная электростанция, стенд с солнечными батареями и станция с электро-щитовым оборудованием и аккумуляторными батареями, со следующими техническими характеристиками:

Общие данные
Энергоотдача 12-25 кВт*час/сутки
Напряжение 220 В
Максимальная мощность 3,5 кВт

ОАО «НИИПМ» разрабатывает и производит автоматизированное оборудование для:

— химической обработки пластин,

фотолитографии,

— изготовления фотошаблонов и обработки подложек,

— измерений и испытаний полупроводниковых приборов,

— водоподготовки,

— сборочное оборудование,

плазмохимии.

Профильные разработки править

Оборудование для химической обработки пластин включает в себя установки химической очистки, обработки в органических растворителях, ультразвуковой отмывки в моющем растворе, индивидуальной двухсторонней отмывки, установки сушки методом центрифугирования .

Оборудование для фотолитографии включает в себя установки модульно-кластерного комплекса субмикронной литографии, нанесения фоторезиста, нанесения фоторезиста с термообработкой, проявления фоторезиста.

Оборудование для изготовления фотошаблонов и обработки подложек включает в себя установки автоматического проведения процесса двухсторонней отмывки фотошаблонов в зоне обеспыливания, финишной отмывки и сушки поверхности шаблонов и пластин, методом «Марангони», нанесение резиста на шаблонные подложки методом центрифугирования, индивидуальной химической обработки поверхности шаблонных заготовок, травления маскирующего слоя, сушки резиста поле операции нанесения фоторезиста и задубливания резиста после операции проявления, гидромеханической и бесконтактной отмывки стеклянных подложек в производстве жидкокристаллических дисплеев, а также блоки рецикла деионизированной воды.

Оборудование для плазмохимии включает в себя установки скоростного плазмохимического травления плёнок SiO2, ACC, поли-Si, Si3N4 через фоторезистивную маску, удаления фоторезистивных масок в технологии производства СБИС после любой операции формирования топологического ресунка, плазмохимического травления плёнок Al (силицида алюминия) через фотрезистивную маску, осаждения чистых или лигированных фосфором диэлектрических слоев SiO2, синтеза эндоэдральных фуллеренов и нанотрубок, удаления фотрезистивных масок при производстве изделий электроники и МЭМС, после формирования топологического рисунка.

Оборудование для водоподготовки и водоочистки включает в себя установки обратного осмоса, очистки для получения особо чистой воды для производства изделий электронной техники, очистки магистральной водопроводной воды для нужд населения, умягчения питьевой воды.

Контрольно-измерительное оборудования включает в себя системы контроля СБИС при входном контроле у потребителей, измерения статических и динамических параметров микросхем, измерения параметров N-канальных полевых транзисторов.

Контрольно испытательное оборудование включает в себя проходные камеры (измерение внешним измерителем электрических параметров микросхем в спутниках-носителях в климатической камере), установки вакуумного термоциклирования, стенды электротермотренировки интегральных микросхем различного функционального назначения с контролем состояния микросхем, автоматические сортировщики полупроводниковых приборов и интегральных схем по группам годности, полуавтоматы и автоматы вырубки, укладки, демонтажа интегральных схем в и из спутников носителей, стенды вакуумного обезгаживания для удаления смол клеящих составов после монтажа солнечных батарей.

В НИИ работает достаточно большое количество специалистов, которые специализируются в области создания ПО, информационных систем, БД которые обеспечивают бесперебойную работу автоматизированных линий и установок.

Последние разработки править

Роботизированные системы править

 
Автоматизированной оборудования для производства и квалификационных испытаний солнечных батарей

Последние разработки НИИ связаны с Роскосмосом и НПП «КВАНТ». НИИПМ разработало и произвело автоматизированное оборудование для изготовления и квалификационных испытаний солнечных батарей нового поколения. Эта автоматизированная линия позволит исключить «человеческий фактор» при сборке солнечных батарей. В данную систему входят:

— Установка вакуумного термоциклирования «УВТЦ — ПАРУС»;

— Стенд вакуумного обезгаживания «СВО — 150»

— Установка монтажа фото-электропреобразователей (ФЭП) в спутники-носители (СН) и проведения контроля внешнего вида (КВВ);

— Сортировщик ФЭП на 2 группы;

— Автоматы приварки шинки;

— Установка демонтажа ФЭП из СН и укладка ФЭП в кассету;

— Полуавтомат приварки диода;

— Установка монтажа изделия в СН и укладки в пенал;

— Установка склейки пакета;

— Установки вакуумного термопрессования;

— Сортировщик ФЭП на 15 групп;

— Автомат сборки стринга;

— Роботизированная система КВВ панелей солнечных батарей (СБ).

Разработки для электронной промышленности править

 
УОП-150-1

Для химической обработки пластин одной из последних разработок является установки односторонней гидромеханической и мегазвуковой очистки пластин. Примером является установка «УОП-150-1». Она предназначена для проведения процесса очистки пластин методом раздельной обработки поверхности деионизованной водой с применением мегазвуковых колебаний генератором, частота которого составляет 1,65 МГц и гидромеханическим способом обработки с подачей моющего раствора на щётку, диапазон вращения которой лежит в пределах от 150 до 300 оборотов в минуту.

Для фотолитографических процессов был разработан модульно-кластерный комплекс субмикронной литографии (КФЛ). Уникальность данной установки состоит в том, что все виды фотолитографической обработки объединены единым транспортным устройством в виде робота-манипулятора. Подобные решения в области автоматизации технического процесса были в дальнейшем применены в разработке автоматизированного комплекса для сборки и испытаний солнечных батарей.

Так же в области фотолитографии была разработана и произведена для заказчика установка формирования фоторезистивных плёнок «УФП-100М». Для изготовления фотошаблонов и обработки подложек спроектирована установка отмывки шаблонов «УОФ-153А». Оборудование производит гидромеханическую отмывку шаблонов с кассетной загрузкой и выгрузкой пластин. Так же конструктивно предусмотрена установка зоны обеспыливания. При обработке пластин применяется индивидуальная двухсторонняя очистка шаблонов щетками и мегазвуковая очистка на центрифуге с применением деионизованной воды. В системе используется сканирующая мегазвуковая форсунка.

Для индивидуальной двухсторонней отмывки и сушки поверхностей стеклянных пластин изготовлена установка «УОСП-325» которая использует деионизованную воду поступающая из отдельного блока рецикла. Здесь применяется сушка пластин с использованием метода «Марангони». Установка изготавливается в двух исполнениях: индивидуальная и кассетная. Загрузка и выгрузка опционально может быть как ручной так и автоматической.

Для плазмохимических процессов спроектирован автомат скоростного плазмохимического травления «ПЛАЗМА-150». Здесь происходит травление плёнок SiO2, ACC, поли-Si, Si3N4 через фоторезистивную маску. Данная установка позволяет получать минимальный размер топологического рисунка до 0,6 мкм. Система оснащена микропроцессорным контролем параметров технологического процесса, автоматическим контролем давления, расхода газа, ВЧ-мощности. Частота используемого генератора составляет 13,56 МГц а диаметр обрабатываемых пластин — 100 и 150 мм.

В 2012 году для нано-технологического центра МИЭТ был разработан полуавтомат плазмохимического удаления фоторезистивных масок в технологии производства изделий электронной техники и МЭМС, после формирования топологического рисунка на пластинах диаметром 100, 150 мм — «ПЛАЗМА-150МТ».

Для нужд электронной промышленности разрабатываются системы водоподготовки. Последними разработками в данной области являются промышленные установки обратного осмоса которые так же могут применяться для применения в пищевой, фармацевтической, косметологической промышленностях а также для нужд населения.

Последними разработками ОАО «НИИПМ» в области контрольно-измерительного и контрольно-испытательного оборудования являются измерители статических параметров КВК.ДИЦ.Э-16, КВК.СИЦ.Э-45, проходные камеры ПКВ-3, ПКВ-4, которые предназначены для измерения внешними измерителями электрических параметров микросхем помещённых в спутники-носители, в климатических камерах с последующей сортировкой их по группам годности.

Примечания править

  1. ОАО «НИИПМ» член МАКД Архивная копия от 24 апреля 2013 на Wayback Machine ОАО «НИИПМ» на сайте МАКД.
  2. Список поставщиков Архивная копия от 4 октября 2012 на Wayback Machine ОАО «НИИПМ» в списке поставщиков ПРО-АТОМ.

Ссылки править