Электронная литография: различия между версиями
| [отпатрулированная версия] | [отпатрулированная версия] |
Содержимое удалено Содержимое добавлено
Метки: с мобильного устройства из мобильной версии |
A5b (обсуждение | вклад) →Производители: Переписать - есть 2 применения e-beam: запись масок (популярно? в т.ч. mbmw? MBMW POC = 2014 -ims) и безмасочная литография (maskless e-beam, mbdw, эк |
||
Строка 36:
== Производители ==
<!-- Переписать - есть 2 применения e-beam: запись масок (популярно? в т.ч. mbmw? MBMW POC = 2014 -ims) и безмасочная литография (maskless e-beam, mbdw, экспериментально. Сейчас перемешано)-->
Известны несколько производителей установок электронной литографии для непосредственной записи рисунка на больших подложках<ref>{{cite news|url=http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1261209|title=TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine|author=Peter Clarke|date=2/17/2012|publisher=EETimes|lang=en|accessdate=2014-01-10}} "There are at least three potential suppliers of the maskless e-beam technology: IMS Nanofabrication AG (Vienna, Austria), KLA-Tencor Corp. (Milpitas, Calif.) with its Reflective Electron Beam Lithography (REBL) system and Mapper Lithography."</ref>:▼
Электронная литография применяется для создания фотолитографических масок.
▲
* [[Mapper Lithography]] (Нидерланды)
* [[IMS Nanofabrication]] AG (Vienna, Austria)
| |||