Электронная литография: различия между версиями
| [отпатрулированная версия] | [отпатрулированная версия] |
Содержимое удалено Содержимое добавлено
A5b (обсуждение | вклад) →Производители: Подобные системы производили компании: Applied Materials (Etec), Leica, Hitachi, Toshiba, JEOL, MEBES |
A5b (обсуждение | вклад) м →Производители: Etec MEBES SPIE Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication. Volume 1: Microlithography] Chapter 2, E Beam Lithography </r |
||
Строка 37:
== Производители ==
<!-- Переписать - есть 2 применения e-beam: запись масок (популярно? в т.ч. mbmw? MBMW POC = 2014 -ims) и безмасочная литография (maskless e-beam, mbdw, экспериментально. Сейчас перемешано)-->
Электронная литография применяется для создания масок для фотолитографии ([[фотошаблон]]ов), при этом традиционно используются системы с одним электронным пучком. Подобные системы производили компании: Applied Materials
Несколько производителей установок электронной литографии с середины 2010-х предлагают многолучевые системы записи фотошаблонов<ref>http://semiengineering.com/5-disruptive-mask-technologies/ "In 2015, photomask vendors could begin to make a gradual transition from single-beam e-beam tools to a new class of multi-beam mask writers."</ref>, при этом могут позиционировать их также для непосредственной записи рисунка на больших подложках (безмасочная литография)<ref>{{cite news|url=http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1261209|title=TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine|author=Peter Clarke|date=2/17/2012|publisher=EETimes|lang=en|accessdate=2014-01-10}} "There are at least three potential suppliers of the maskless e-beam technology: IMS Nanofabrication AG (Vienna, Austria), KLA-Tencor Corp. (Milpitas, Calif.) with its Reflective Electron Beam Lithography (REBL) system and Mapper Lithography."</ref>:
| |||