Электронная литография: различия между версиями
| [непроверенная версия] | [непроверенная версия] |
Содержимое удалено Содержимое добавлено
Метки: с мобильного устройства из мобильной версии |
Метки: с мобильного устройства из мобильной версии |
||
Строка 42:
=== Ухудшение разрешения из-за нелинейных процессов при взаимодействии электронного пучка с резистом ===
[[Файл:Electron Beam scattering.svg|right|thumb|300px|Схема взаимодействия первичного электрона пучка с подложкой (слоем резиста). Вторичные выбитые электроны паразитно экспонируют близлежащие участки резиста.]]
| |||