Электронная литография: различия между версиями
| [непроверенная версия] | [непроверенная версия] |
Содержимое удалено Содержимое добавлено
→Примечания: категория |
Zatvornik (обсуждение | вклад) →Принцип метода: викификация |
||
Строка 2:
== Принцип метода ==
Электронный пучок, остросфокусированный с помощью [[Магнитная линза|магнитных линз]] на поверхность слоя полимера ( [[резист]]а), чувствительного к электронному облучению, прорисовывает на нем изображение, которое обнаруживается после обработки резиста в проявителе. Обработка электронным пучком резиста меняет степень растворимости полимера в растворителе (проявителе). Участки поверхности, с записанным на них изображением, очищаются от резиста с помощью проявителя. Через полученные окна в плёнке резиста производится вакуумное напыление подходящего материала, например, [[Нитрид титана|нитрида титана]] или металлов или ионное травление. На последнем этапе технологического процесса неэкспонированный излучением резист также смывают другим растворителем.
Перемещение электронного пучка по поверхности осуществляется с помощью компьютера изменением токов в отклоняющих магнитных системах. В некоторых установках при этом меняется форма и размеры пятна электронного пучка.
На выходе многоступенчатого технологического процесса получается [[Фотошаблон|фотошаблон-маска]] для использования в фотолитографии и других нанотехнологических процессах, например, в технологии [[Реактивное ионное травление|реактивного ионного травления]].
| |||