Новолаки
Новолаки (новолачные смолы) — тип термопластичных феноло-формальдегидных смол, продукт поликонденсации формальдегида с избытком фенола[1].
Новолаки не содержат реакционноспособных групп и не отверждаются при нагревании в отсутствие специальных агентов (например, гексаметилентетрамина)[1][2].
Обычно новолаки получают конденсацией фенола или смеси пара- и мета-крезолов с формальдегидом в виде формалина в присутствии кислого катализатора, например, щавелевой кислоты, преимущество которой состоит в том, что её затем легко удалить разложением при нагревании. Степень полимеризации новолаков составляет 20-40. Плотность мостиковых связей определяется условиями полимеризации, соотношением м- и п-крезолов в исходной смеси и соотношением метиленовых звеньев к крезольным, и составляет обычно около 15%[3].
Свежеполученные новолаки имеют малый молекулярный вес и термопластичны. Их отверждение достигается добавкой избытка формальдегида или, чаще, веществ, которые при нагревании разлагаются на формальдегид[4].
Новолаки находят применение в производстве лаков, абразивных инструментов, прессматериалов[1]. В качестве прессматериалов используют порошки новолаковых смол с наполнителем, которые прессуют в формах при нагревании с отверждающим агентом[4]. Особое значение новолаки имеют в микроэлектронике как фоторезисты[5][6]. Применяются как адгезивы в резинах.
Название происходит от лат. novo - новый и швед. lack - лак, потому что первым предполагаемым применением этих новоизобретённых полимеров посчитали замену натуральных лаков, например, копалового.
Источники править
- ↑ 1 2 3 Политехнический словарь / гл. ред. акад. И. И. Артоболевский. — М.: Советская энциклопедия, 1976. — С. 317. — 608 с. — 105 000 экз.
- ↑ Brockhaus ABC Chemie in zwei Baenden. — Leipzig: VEB F. A. Brockhaus Verlag, 1966. — Bd. 2 L-Z. — S. 1050-1051. — 1590 S.
- ↑ Ralph Dammel. Basic Chemistry of Novolaks // Diazonaphthoquinone-based Resists. — Int. Soc. Optical Engineering, 1993. — ISBN 9780819410191.
- ↑ 1 2 Novolac | chemistry | Britannica (англ.). www.britannica.com. Дата обращения: 3 июня 2023. Архивировано 3 июня 2023 года.
- ↑ W. D. Hinsberg, G. M. Wallraff. Lithographic Resists // Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology. — New York: John Wiley, 2005. — doi:10.1002/0471238961.1209200808091419.a01.pub2.
- ↑ Integrated Laboratory Systems (2006–01). Chemical Information Review Document for Diazonaphthoquinone Derivatives Used in Photoresists (PDF) (Report). National Toxicology Program. Архивировано (PDF) из оригинала 20 марта 2021. Дата обращения: 3 июня 2023.
{{cite report}}: Википедия:Обслуживание CS1 (формат даты) (ссылка)
Дополнительная литература править
- Барг Э. И. Технология синтетических пластических масс. — Госхимиздат. — Л., 1954. — 656 с.